Infineon Technologies und Canon starten gemeinsames Forschungsprojekt zur schnellen Einführung von Lithographie-Systemen auf 157 nm-Basis
Gemeinsame Pressemitteilung von Infineon Technologies und Canon
Tokio, München, 12. Juni 2001Infineon Technologies AG (FSE/NYSE: IFX) und Canon Inc. (NYSE: CAJ) haben ein gemeinsames Forschungsprojekt zur Entwicklung von Photolithographie-Systemen auf Basis der 157 nm (Nanometer)-Belichtungstechnologie über F2-Laser (Fluor) vereinbart. Mit dieser Zusammenarbeit wird die Entwicklung von 157 nm-Lithographie-Anlagen sowie die nachfolgende Einführung dieser Technologie in den Herstellungsprozess von Halbleiterbauelementen wesentlich beschleunigt. Infineon plant die Einführung der 157 nm-Lithographie-Technik für die Fertigung von Speicher- und Logikprodukten an hochmodernen Produktionsstandorten des Unternehmens.
Infineon Technologies beteiligt sich im Rahmen des Forschungsprojekts an den Entwicklungsaktivitäten von Canon zur schnelleren Fertigstellung des Canon-F2-Belichtungssystems der ersten Generation, dessen Auslieferung an Infineon Technologies für das zweite Quartal 2003 vorgesehen ist. Bis zu diesem Zeitpunkt laufen die gemeinsamen Forschungsaktivitäten am Canon-Standort für optische Produkte in Utsunomiya. Sie beinhalten die Sammlung von Prozessdaten für die tatsächliche Herstellung von Systemen, mit denen die Entwicklung von 70 nm-kompatiblen Belichtungsanlagen ermöglicht und vorangetrieben werden soll. Im Anschluss werden für die gemeinsame Prozessentwicklung bis Ende 2004 sämtliche Aktivitäten zu Infineon Technologies verlegt. Canon benötigt für die spätere Gerätefertigung eine Vielzahl unterschiedlicher Prozessdaten zur Ablösung der bestehenden ArF-(Argon-Fluorid)-Laser-Lithographie-Familie durch 70 nm-kompatible F2-Belichtungssysteme.
Beide Unternehmen gehen davon aus, dass Belichtungsanlagen auf F2-Laser-Basis mit der kürzeren Wellenlänge von 157 nm zukünftig von den Herstellern von Halbleiterbauelementen weltweit dazu eingesetzt werden, um Schaltkreise mit 70 nm-Groundrules entwickeln und fertigen zu können. Belichtungssysteme mit KrF- (Krypton-Fluorid, 248 nm) und ArF-Lasern (193 nm) bieten nicht die technischen Voraussetzungen zur Abbildung der ultrafeinen Linienmuster, die von den Chip-Herstellern für die Miniaturisierung von Schaltkreisen unter 90 nm benötigt werden. Aus diesem Grund können die beiden Techniken mit der ständig fortschreitenden Verkleinerung von Rastermaßen und Abmessungen in Zukunft nicht mehr länger Schritt halten. Gemäß der International Technology Roadmap for Semiconductors (ITRS) sie sieht einen Beginn der Massenfertigung von 70nm-Speicherbausteinen für das Jahr 2006 vor müssen die 157 nm-Systeme zur Entwicklung und Musterfertigung dieser Komponenten bereits mit einem Vorlauf von einigen Jahren zur Verfügung stehen.
Mit der Kooperation sind wir in der Lage, die umfangreichen Datenbestände für Resist-Prozesse sowie die langjährigen Erfahrungen von Infineon Technologies auf diesem Gebiet mit den erstklassigen Photolithographie-Anlagen von Canon zu kombinieren, sagte Andreas Oelmann, Vice President of Corporate Lithography bei Infineon. Durch das gemeinsame Forschungsprogramm werden wir die neue 157 nm-Lithographie-Technologie frühzeitig verfügbar haben und so unsere aggressive Roadmap für neue Speicher- und Logikbausteine in die Praxis umsetzen können. Im Rahmen dieses gemeinsamen Projekts wird Infineon das erforderliche Know-how wie auch die nötige Manpower beisteuern, um die Entwicklungsaktivitäten in Utsunomiya zu beschleunigen. Zur Einführung neuer Miniaturisierungsansätze in der Schaltungstechnologie ist das richtige Timing von entscheidender Bedeutung, und wir sind davon überzeugt, dass wir mit der Bündelung unserer Aktivitäten wertvolle Monate einsparen und so dem Wettbewerb einen wichtigen Schritt voraus sein können.
Die Zusammenarbeit mit Infineon ist der erste Schritt, um zu zeigen, welche führende Rolle Canon in Zukunft bei der zeitnahen Markteinführung von komplexen optischen Lithographie-Systemen spielen wird, kommentierte Akira Tajima, Director and Chief Executive of Optical Products Operations bei Canon Inc. Wir wollen unseren Partnern nicht nur technisch erstklassige Photolithographie-Anlagen zur Verfügung stellen, sondern darüber hinaus echte 157 nm-Systemlösungen bieten. Aus diesem Grund arbeitet Canon bei der Prozessentwicklung eng mit seinen Kunden zusammen, um den Technologieexperten der unterschiedlichen Gebiete die Möglichkeit zu bieten, ihre jeweiligen Fachkenntnisse gezielt zu kombinieren und sich auf die Erreichung des gemeinsamen Ziels konzentrieren zu können.
Infineon Technologies AG, München, bietet Halbleiter- und Systemlösungen für Anwendungen in der drahtgebundenen und mobilen Kommunikation, für Sicherheitssysteme und Chipkarten, für die Automobil- und Industrieelektronik, sowie Speicherbauelemente. Infineon ist weltweit tätig und steuert seine Aktivitäten in den USA aus San Jose, Kalifornien, im asiatisch-pazifischen Raum aus Singapur und in Japan aus Tokio. Mit weltweit rund 29.000 Mitarbeitern erzielte Infineon im Geschäftsjahr 2000 (Ende September) einen Umsatz von 7,28 Milliarden Euro. Das DAX-Unternehmen ist in Frankfurt und New York (NYSE) unter dem Symbol IFX notiert. Weitere Informationen unter www.infineon.com
Canon Inc. (NYSE: CAJ) ist mit Hauptsitz in Tokio, Japan, einer der weltweit führenden Anbieter von Imaging-Geräten und Informationssystemen für den professionellen und semi-professionellen Bereich. Die breite Produktpalette von Canon beinhaltet u.a. Kopierer, Tintenstrahl- und Laserdrucker, Kameras, Video-Systeme sowie Fertigungsanlagen zur Herstellung von Halbleiter-Bauelementen. Ursprünglich im Jahr 1937 unter dem Namen Precision Optical Industry, Co., Ltd. als Kamerahersteller gegründet, hat sich Canon in den zurückliegenden Jahrzehnten erfolgreich als einer der weltweiten Marktführer vom Imaging-Systemen und Lösungen für den Profi- und Consumer-Bereich etablieren können. Canon beschäftigt heute weltweit circa 86.000 Mitarbeiter und verfügt über Fertigungs- und Vertriebsstandorte in Japan, Nord- und Südamerika, Europa, Asien und Ozeanien. Das internationale F&E-Netzwerk des Unternehmens umfasst Partnerfirmen in den USA sowie in Europa, Asien und Australien. Der konsolidierte Umsatz von Canon betrug im Geschäftsjahr 2000 (Ende 31. Dezember 2000) insgesamt 24,2 Milliarden US$ (Umrechnungskurs: 1 US$ = \115). Weitere Informationen über Canon Inc. finden Sie auch im Internet unter www.canon.co.jp
Richard Berger, Canon Inc.
Tel: 03-5482-8055/Fax: 03-5482-5130
richard.berger@canon.co.jp
Tokio, München, 12. Juni 2001Infineon Technologies AG (FSE/NYSE: IFX) und Canon Inc. (NYSE: CAJ) haben ein gemeinsames Forschungsprojekt zur Entwicklung von Photolithographie-Systemen auf Basis der 157 nm (Nanometer)-Belichtungstechnologie über F2-Laser (Fluor) vereinbart. Mit dieser Zusammenarbeit wird die Entwicklung von 157 nm-Lithographie-Anlagen sowie die nachfolgende Einführung dieser Technologie in den Herstellungsprozess von Halbleiterbauelementen wesentlich beschleunigt. Infineon plant die Einführung der 157 nm-Lithographie-Technik für die Fertigung von Speicher- und Logikprodukten an hochmodernen Produktionsstandorten des Unternehmens.
Infineon Technologies beteiligt sich im Rahmen des Forschungsprojekts an den Entwicklungsaktivitäten von Canon zur schnelleren Fertigstellung des Canon-F2-Belichtungssystems der ersten Generation, dessen Auslieferung an Infineon Technologies für das zweite Quartal 2003 vorgesehen ist. Bis zu diesem Zeitpunkt laufen die gemeinsamen Forschungsaktivitäten am Canon-Standort für optische Produkte in Utsunomiya. Sie beinhalten die Sammlung von Prozessdaten für die tatsächliche Herstellung von Systemen, mit denen die Entwicklung von 70 nm-kompatiblen Belichtungsanlagen ermöglicht und vorangetrieben werden soll. Im Anschluss werden für die gemeinsame Prozessentwicklung bis Ende 2004 sämtliche Aktivitäten zu Infineon Technologies verlegt. Canon benötigt für die spätere Gerätefertigung eine Vielzahl unterschiedlicher Prozessdaten zur Ablösung der bestehenden ArF-(Argon-Fluorid)-Laser-Lithographie-Familie durch 70 nm-kompatible F2-Belichtungssysteme.
Beide Unternehmen gehen davon aus, dass Belichtungsanlagen auf F2-Laser-Basis mit der kürzeren Wellenlänge von 157 nm zukünftig von den Herstellern von Halbleiterbauelementen weltweit dazu eingesetzt werden, um Schaltkreise mit 70 nm-Groundrules entwickeln und fertigen zu können. Belichtungssysteme mit KrF- (Krypton-Fluorid, 248 nm) und ArF-Lasern (193 nm) bieten nicht die technischen Voraussetzungen zur Abbildung der ultrafeinen Linienmuster, die von den Chip-Herstellern für die Miniaturisierung von Schaltkreisen unter 90 nm benötigt werden. Aus diesem Grund können die beiden Techniken mit der ständig fortschreitenden Verkleinerung von Rastermaßen und Abmessungen in Zukunft nicht mehr länger Schritt halten. Gemäß der International Technology Roadmap for Semiconductors (ITRS) sie sieht einen Beginn der Massenfertigung von 70nm-Speicherbausteinen für das Jahr 2006 vor müssen die 157 nm-Systeme zur Entwicklung und Musterfertigung dieser Komponenten bereits mit einem Vorlauf von einigen Jahren zur Verfügung stehen.
Mit der Kooperation sind wir in der Lage, die umfangreichen Datenbestände für Resist-Prozesse sowie die langjährigen Erfahrungen von Infineon Technologies auf diesem Gebiet mit den erstklassigen Photolithographie-Anlagen von Canon zu kombinieren, sagte Andreas Oelmann, Vice President of Corporate Lithography bei Infineon. Durch das gemeinsame Forschungsprogramm werden wir die neue 157 nm-Lithographie-Technologie frühzeitig verfügbar haben und so unsere aggressive Roadmap für neue Speicher- und Logikbausteine in die Praxis umsetzen können. Im Rahmen dieses gemeinsamen Projekts wird Infineon das erforderliche Know-how wie auch die nötige Manpower beisteuern, um die Entwicklungsaktivitäten in Utsunomiya zu beschleunigen. Zur Einführung neuer Miniaturisierungsansätze in der Schaltungstechnologie ist das richtige Timing von entscheidender Bedeutung, und wir sind davon überzeugt, dass wir mit der Bündelung unserer Aktivitäten wertvolle Monate einsparen und so dem Wettbewerb einen wichtigen Schritt voraus sein können.
Die Zusammenarbeit mit Infineon ist der erste Schritt, um zu zeigen, welche führende Rolle Canon in Zukunft bei der zeitnahen Markteinführung von komplexen optischen Lithographie-Systemen spielen wird, kommentierte Akira Tajima, Director and Chief Executive of Optical Products Operations bei Canon Inc. Wir wollen unseren Partnern nicht nur technisch erstklassige Photolithographie-Anlagen zur Verfügung stellen, sondern darüber hinaus echte 157 nm-Systemlösungen bieten. Aus diesem Grund arbeitet Canon bei der Prozessentwicklung eng mit seinen Kunden zusammen, um den Technologieexperten der unterschiedlichen Gebiete die Möglichkeit zu bieten, ihre jeweiligen Fachkenntnisse gezielt zu kombinieren und sich auf die Erreichung des gemeinsamen Ziels konzentrieren zu können.
Über Infineon
Infineon Technologies AG, München, bietet Halbleiter- und Systemlösungen für Anwendungen in der drahtgebundenen und mobilen Kommunikation, für Sicherheitssysteme und Chipkarten, für die Automobil- und Industrieelektronik, sowie Speicherbauelemente. Infineon ist weltweit tätig und steuert seine Aktivitäten in den USA aus San Jose, Kalifornien, im asiatisch-pazifischen Raum aus Singapur und in Japan aus Tokio. Mit weltweit rund 29.000 Mitarbeitern erzielte Infineon im Geschäftsjahr 2000 (Ende September) einen Umsatz von 7,28 Milliarden Euro. Das DAX-Unternehmen ist in Frankfurt und New York (NYSE) unter dem Symbol IFX notiert. Weitere Informationen unter www.infineon.com
Über Canon
Canon Inc. (NYSE: CAJ) ist mit Hauptsitz in Tokio, Japan, einer der weltweit führenden Anbieter von Imaging-Geräten und Informationssystemen für den professionellen und semi-professionellen Bereich. Die breite Produktpalette von Canon beinhaltet u.a. Kopierer, Tintenstrahl- und Laserdrucker, Kameras, Video-Systeme sowie Fertigungsanlagen zur Herstellung von Halbleiter-Bauelementen. Ursprünglich im Jahr 1937 unter dem Namen Precision Optical Industry, Co., Ltd. als Kamerahersteller gegründet, hat sich Canon in den zurückliegenden Jahrzehnten erfolgreich als einer der weltweiten Marktführer vom Imaging-Systemen und Lösungen für den Profi- und Consumer-Bereich etablieren können. Canon beschäftigt heute weltweit circa 86.000 Mitarbeiter und verfügt über Fertigungs- und Vertriebsstandorte in Japan, Nord- und Südamerika, Europa, Asien und Ozeanien. Das internationale F&E-Netzwerk des Unternehmens umfasst Partnerfirmen in den USA sowie in Europa, Asien und Australien. Der konsolidierte Umsatz von Canon betrug im Geschäftsjahr 2000 (Ende 31. Dezember 2000) insgesamt 24,2 Milliarden US$ (Umrechnungskurs: 1 US$ = \115). Weitere Informationen über Canon Inc. finden Sie auch im Internet unter www.canon.co.jp
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Richard Berger, Canon Inc.
Tel: 03-5482-8055/Fax: 03-5482-5130
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INFCXX200106.088e